AEROSIL与AEROXIDE在CMP和电子中应用
AEROSIL与AEROXIDE在CMP和电子中应用
化学机械平坦化与电子技术
AEROSIL与AEROXIDE在CMP和电子中应用：化学机械平坦化（CMP）是制造集成电路的有利技术。赢创致力于为半导体行业提供化学机械平坦化**解决方案，是全球优选的合作伙伴。
全球电子级制造业
赢创工业集团是全球*大的气相金属氧化物粒子供应商，为半导体行业提供用于化学机械平坦化的研磨颗粒，成绩斐然。随着电子级制造扩展至所有的行业增长市场，赢创能够凭借当地资源为您开发出合乎要求的粒子解决方案。
无论您的目标是要改善现有应用过程中的产量和效率，还是针对下一代金属化学机械平坦化的浆料开发或结点大小，赢创均具备相应的能力和经验，为半导体行业提供符合严格要求的AEROSIL®产品。
新产品开发
赢创AEROSIL®具有*广泛的开发级纳米粒子产品。可提供一系列开发级气相金属氧化物、掺杂的金属氧化物和经表面处理的金属氧化物，以协助我们的客户紧随国际半导体技术发展蓝图（ITRS）的步伐。这些开发级产品主要为粉末状，也可用作测试目的的实验室分散剂。
AEROSIL与AEROXIDE在CMP和电子中应用-用于钛酸钡介质电容器的二氧化钛
钛酸钡电容器可以通过许多工艺进行生产，*经济的方法之一是通过固态工艺进行生产，因为其生产过程不会影响产品性能。
如需了解更多本专题信息，发现对您有用的AEROXIDE®产品系列，请随时联系我们。
AEROSIL与AEROXIDE在CMP和电子中应用-AEROSIL®气相法二氧化硅应用于印刷电路板的抗蚀油墨
印刷电路板经过许多步骤的生产过程，才终于在今天的电器中使用。其中一个重要的步骤是要保证导线无任何瑕疵。
通常情况下，AEROSIL®产品作为添加剂，用以控制特殊抗腐蚀油墨的流变性，由此确保导电线在蚀刻过程中完全得到保护。与此同时，抗蚀油墨在日常条件下要保护电路免于高温、潮湿和灰尘的腐蚀。
AEROSIL®产品组合包括许多适合于不同配方的产品，主要有：
| 产品 | 比表面积 (BET) |
pH值 (浓度为4％的分散剂) |
表面处理 |
|---|---|---|---|
| AEROSIL® 200 | 200 ± 25 m2/g | 3.7-4.7 | 亲水型 |
| AEROSIL® 300 | 300 ± 30 m2/g | 3.7-4.7 | 亲水型 |
| AEROSIL® 380 | 380 ± 30 m2/g | 3.7-4.7 | 亲水型 |
| AEROSIL® R 972 | 110 ± 20 m2/g | 3.6-5.5 | 疏水型 |
| AEROSIL® R 974 | 170 ± 20 m2/g | 3.7-4.7 | 疏水型 |
